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陶瓷碳化硅 vs 半导体碳化硅:同一种材料,不同的命运

发布时间:2025-07-29

碳化硅(SiC)是材料界的“多面手”——既能化身耐高温、高硬度的工业“铠甲”,也能蜕变为高效能电子器件的核心材料。尽管化学组成相同,但当它被归入“陶瓷”或“半导体”领域时,命运便走向了截然不同的分支。陶瓷碳化硅与半导体碳化硅,如同同根生的双生树,根系同源却枝叶各异,在原料、工艺、性能及应用场景上展现出鲜明差异。

 

一、原料纯度:工业容错与电子苛责的分野
 

陶瓷级碳化硅对原料粉末的纯度容忍度较高,一般工业级产品(纯度90%-98%)即可满足多数场景需求;即便高性能结构陶瓷(如反应烧结SiC),也仅需将游离硅含量控制在合理范围,甚至会主动添加氧化铝(Al₂O₃)、氧化钇(Y₂O₃)等烧结助剂,以降低烧结温度、提升材料致密度。这些“杂质”在陶瓷体系中非但无害,反而成为优化性能的“辅助工具”。

 

半导体级碳化硅则对纯度有着近乎偏执的要求:衬底级单晶需达到6N(99.9999%)以上,高端应用甚至追求7N(99.99999%);外延层的杂质浓度需严格控制在10¹⁶ atoms/cm³以下,尤其要规避硼(B)、铝(Al)、钒(V)等深能级杂质。原因在于,即使是痕量杂质(如铁、铝、硼)也会显著影响其电学特性——可能引发载流子散射、降低击穿场强,最终导致器件性能衰减或失效。对半导体SiC而言,纯度是生存的底线。
 

 


碳化硅半导体材料


 

二、晶体结构:无序聚合与有序单晶的路径选择
 

陶瓷碳化硅多以多晶烧结体形式存在,内部由大量随机排列的微小晶粒构成,包含α-SiC、β-SiC等多种晶型,但无需严格控制单一晶型。其核心关注点是整体致密度与均匀性——内部充满晶界与微小孔隙,甚至可能残留少量烧结助剂(如氧化铝)。这种“无序”结构恰是陶瓷材料韧性与加工灵活性的来源。

 

半导体碳化硅则必须是高度有序的单晶材料,且晶型需严格筛选(主流为4H-SiC、6H-SiC)。以4H-SiC为例,其高载流子迁移率与高击穿场强特性,使其成为功率器件的“黄金选择”。单晶结构的完整性直接决定了电子迁移率、禁带宽度等关键性能,因此需通过物理气相传输法(PVT)等精密技术,在2200-2400℃的高温真空环境中,精准控制温度梯度(±1℃)与压力,确保晶体沿特定晶型生长。

 

三、制备工艺:粗犷成型与精密生长的代际差
 

陶瓷碳化硅的制备更接近传统陶瓷工艺:工业级SiC粉末(微米级粒度)与粘结剂混合后,经压制成型、高温烧结(1600-2200℃)即可。多数情况下,90%以上的致密度即可满足需求,工艺核心在于成型的稳定性与烧结的一致性。这种“烧砖式”工艺灵活性高,可制备复杂形状部件,但对原料纯度要求宽松。

 

半导体碳化硅的制备则是“芯片级”的精密工程:首先需通过PVT法生长单晶衬底(周期长达数天,缺陷控制难度极高,合格率仅约30%);随后在超高洁净环境(Class 10级洁净室)中,通过化学气相沉积(CVD)在衬底上生长外延层(厚度几微米至几十微米,需精确控制掺杂浓度与厚度均匀性);最终经器件制造环节,形成功率芯片或射频器件。整个过程需严格控制温场、气体流速等参数,原料纯度需>99.9999%,设备精度要求极高。

 

四、成本与应用:大众刚需与高端突围的赛道分殊
 

陶瓷碳化硅因原料成本低、工艺相对简单,吨价仅数千元至数万元,广泛应用于对成本敏感的磨料磨具(砂轮、砂纸)、耐火材料(高温窑炉内衬)、耐磨部件(泵体、管道)等领域,是工业领域的“基础耗材”。

 

 


碳化硅陶瓷结构件
 

 

半导体碳化硅则因单晶生长周期长、缺陷率高,成本呈指数级攀升——一片6英寸衬底单价可达数千美元。其市场聚焦于对性能要求严苛的高端电子领域:在新能源汽车逆变器、电网变流器中,它能提升功率转换效率(降低5%-10%能量损耗);在5G基站、雷达等射频器件中,可支持更高工作频率(突破100GHz);此外,它还是蓝光LED的核心衬底材料。随着新能源与5G产业爆发,其市场需求正以年均30%的速度增长。

 

 


200 毫米 SiC 外延晶片




 

结语:同源异路的材料哲学
 

陶瓷碳化硅与半导体碳化硅,本质是“功能需求”驱动下的材料分化——前者“以形取胜”,依托力学与热学性能成为工业基石;后者“以性为核”,凭借电学特性登顶电子科技巅峰。尽管原料、工艺、成本大相径庭,却各自在所属领域不可替代:一个是“扛鼎的工业脊梁”,一个是“精密的电子心脏”。这种“同根不同命”的差异,恰恰印证了材料科学的魅力——同样的元素组合,因应用场景的千变万化,终将绽放出截然不同的光彩。



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知明   碳化硅陶瓷器件与碳化硅陶瓷球