氮化铝陶瓷基板:高导热、高可靠性的第三代半导体核心材料
上海知明氮化铝(AlN)陶瓷基板凭借其超高热导率(≥170 W/(m·K))、低介电常数、与硅匹配的热膨胀系数(2.8×10⁻⁶/℃)以及优异的化学稳定性,成为大功率集成电路、5G通信、航空航天等领域的关键散热与封装材料。其结合高温共烧技术(HTCC)可实现高密度三维集成,突破传统散热瓶颈。
上海知明氮化铝(AlN)陶瓷基板凭借其超高热导率(≥170 W/(m·K))、低介电常数、与硅匹配的热膨胀系数(2.8×10⁻⁶/℃)以及优异的化学稳定性,成为大功率集成电路、5G通信、航空航天等领域的关键散热与封装材料。其结合高温共烧技术(HTCC)可实现高密度三维集成,突破传统散热瓶颈。